荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥回應(yīng)出口管制:并非所有浸潤(rùn)式DUV設(shè)備出口都需獲得荷蘭政府許可
荷蘭政府于今日(6月30日)頒布了有關(guān)半導(dǎo)體設(shè)備出口管制的新條例。
荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥公司(ASML)在給《中國(guó)日?qǐng)?bào)》的聲明中表示,這些新的出口管制條例針對(duì)對(duì)象為先進(jìn)的芯片制造技術(shù),包括最先進(jìn)的沉積設(shè)備和浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng),并非部分媒體報(bào)道的所有浸潤(rùn)式DUV 光刻系統(tǒng)。(記者 馬思 來源:中國(guó)日?qǐng)?bào)微博)



